200余国内外专家学者在武汉理工大学探讨石墨烯和C3N4基光催化材料关键科学问题

中国高校之窗

近日，由武汉理工大学主办的第二届石墨烯和C3N4基光催化材料学术研讨会（2nd International Workshop on Graphene and C3N4-Based Photocatalysts, 简称IWGCP2）在会议中心召开，来自美国、希腊、丹麦、波兰、荷兰等15个国家和地区的200多位专家学者及相关领域师生参加，会议主席为材料复合新技术国家重点实验室的余家国教授和美国肯特州立大学（Kent State University, USA）化学系的Mietek Jaroniec教授。会议得到了国家自然科学基金委重大国际合作项目和国际学术期刊《Applied Surface Science》的支持。

本次研讨会旨在为国内外光催化研究领域的专家和同行们提供一个信息交流的国际平台，通过35场内容全面和信息丰富的学术报告为广大研究者呈现石墨烯和C3N4基光催化材料最新的技术和理论研究进展、探讨关键科学问题、指明未来研究方向。研讨会的主题包括石墨烯基复合光催化材料、C3N4基光催化材料、二维层状光催化材料、光催化材料的表面修饰、光催化材料的第一性原理计算、光催化分解水产氢和氧、光催化还原CO2生成太阳能燃料、光催化材料的环境应用、染料敏化和钙钛矿太阳能电池、光催化和光电催化的表面科学以及其它的光催化材料等。

会议共作大会报告6场、主题报告11场、邀请报告13场、口头报告5场、墙报展示113个、组织编辑见面交流会1场、出版会议摘要论文集1本、评选优秀墙报奖10个并给予了奖励。会后，组委会将接受参会代表的全文投稿，满足要求的论文将发表在SCI收录期刊《Applied Surface Science》(应用表面科学，影响因子3.15)的“Graphene and C3N4-Based photocatalysts”(石墨烯和C3N4基光催化材料)专辑上。

北京泊菲莱科技有限公司、LumaSense Technologies（丹麦）、Instytut Fotonowy（波兰）、安徽科幂机械科技有限公司、北京中教金源科技有限公司、赛默飞世尔科技（中国）有限公司、北京祥鹄科技有限公司、镇江银珠化学科技有限公司和北京杜克泰克科技公司等部分仪器厂商还借助本次会议平台展示了自己用于光催化研究的产品。

本次会议加强了该研究领域国内外专家和学者的学术交流，明确了未来的发展前景与方向，有利于提升我国的学术地位和影响力，对推动石墨烯和g-C3N4基光催化材料的研究进程具有重要意义。

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